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真空鍍膜裝飾鍍技術,真空鍍膜技術

瀏覽:528    日期:2020-08-18

  真空鍍膜裝飾鍍技術
 
  ——物理氣相沉積(PVD)低溫合成
 
  物理氣相沉積(PVD)技術成果,解決了塑料制品件(特別是尺寸小而薄的工件)真空鍍容易變形的技術難題。利用產業化規模的PVD系統,通過計算機自動控制來提高工藝穩定性,沉積出高硬度、少液滴、結合強度高、耐磨性好的TiN膜層。特別是在塑料制品上低溫(≤80℃)沉積出質量優良的陶瓷硬質TiN、TiCN薄膜。
 
  技術特色
 
  ▼ 沉積溫度低(≤80℃),工件不變形;
 
  ▼ 計算機自動控制,工藝重復性好;
 
  ▼ 鍍層品種豐富:Ag, Ti, Al等金屬,TiN, TiCN, ZrN等陶瓷和類金剛石DLC薄膜;
 
  ▼ 基材限制少:塑料、橡膠、各種金屬如鋅、鋁合金、鋼、鈦)均可鍍膜等。
 
  鍍層性能指標 Properties of films
 
  ▼ 膜層硬度高,大于Hv 1300; high hardness, >Hv 1300;
 
  ▼ 膜層厚度:0.1-1.0μm;Thickness of films about 0.1-1.0μm;
 
  ▼ 膜層顏色:以色板為準。Colors of films: up to color sample.
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